Представлены результаты исследований тока вторичных электронов при реактивном ионно-лучевом травлении различных материалов. Приведены теоретические и экспериментальные значения тока вторичных электронов в зависимости от состава плазмообразующей среды, атомного номера мишени, энергии ионов и плотности потока ионов. Предложена модель вторичной электронной эмиссии, учитывающая особенности выхода электронов в случае применения реактивных газов.

1. Сергиенко, А. А. Использование ионно-электронной эмиссии для контроля процесса ионно-лучевого травления слоистых гетерокомпозиций / А. А. Сергиенко, С. Б. Симакин, Г. Д. Кузнецов, Б. А. Билалов, Р. Ш. Тешев // Материалы IV российско-японского семинара «Перспективные технологии и оборудование для материаловедения, микро- и наноэлектроники». - М.: МГИУ, 2006. - С. 285—290.
2. Курочка, А. С. Электронная эмиссия в процессе реактивного ионно-лучевого травления материалов / А. С. Курочка, А. А. Сергиенко, Г. Д. Кузнецов, С. Б. Симакин // Тр. VII Междунар. российско-казахстано-японской научной конф. «Перспективные технологии, оборудование и аналитические системы для материаловедения и наноматериалов» - М. : МГИУ, 2009. - С. 610—611.
3. Кислов, Н. М. К модели вторичных электронов из металлов и полупроводников при ионной обработке поверхности / Н. М. Кислов, Г. Д. Кузнецов, А. А. Сергиенко, С. Б. Симакин // Изв. вузов. Материалы электрон. техники. - 2004. - № 4. - С. 63—67.
4. Курочка, А. С. Ионно-электронная эмиссия в процессе ионно-лучевого травления поверхности материалов / А. С. Курочка, А. А. Сергиенко, Н. А. Харламов, Г. Д. Кузнецов // Тез. докл. IV Междунар. конф. «Кристаллофизика XXI века» - М. : ИК РАН, 2010. - Т. I. - С. 334—335.
5. Справочник химика. / Под ред. Б. П. Никольского - М. : Химия, 1979. - Т. 1. - 642 с.
6. Ивановский, Г. Ф. Ионно-плазменная обработка / Г. Ф. Ивановский, В. И. Петров - М. : Радио и связь, 1986. - 232 с.
7. Крапухин, В. В. Технология материалов электронной техники. Теория процессов полупроводниковой технологии / В. В. Крапухин, И. А. Соколов, Г. Д. Кузнецов - М. : МИСиС, 1995. - 494 с.
8. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой - М.: Мир, 1986. - 488 с.
9. Берлин, Е. В. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок / Е. В. Берлин, С. А. Двинин, Л. А. Сейдман - М.: Техносфера, 2007. - 176 с.