Исследовано влияние условий проведения химико-механической полировки (ХМП) на высоту и однородность распределения микрорельефа по площади пластин-подложек CdZnTe. Разработаны режимы двухстадийной ХМП, обеспечивающие значения параметра шероховатости поверхности Rms в интервале от 2 до 8 нм. Показано, что использование предварительной ХМП с добавлением в травильную композицию полиэдрических метилсилсесквиоксанов и финишной ХМП в травителе «бром-бромисто−водородная кислота — глицерин» обеспечивает однородное распределение значения Rms по площади подложек диаметром до 45 мм.

Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования и науки РФ (государственный контракт № 02.513.12.3059).

1. Шматов, Н. И. Твердые растворы Cd_1-yZn_yTe - материал для подложек эпитаксиальных структур Cd_xHg_1-xTe / Н. И. Шматов, Н. А. Смирнова, А. Г. Белов, В. А. Оранский, А. А. Шленский // Изв. вузов. Материалы электрон. техники. - 2006. - № 3. - С. 28—32.
2. Moravec, P. Chemical polishing of CdTeZn substrates fabricated from crystals grown by the vertical gradient freezing method / P. Moravec, P. Höschl, J. Franc, E. Belas, R. Fesh, R. Grill, P. Horodyský, P. Praus // J. Electron. Mater. - 2006. - V. 35, N 6. - P. 1206—1213.
3. Yoon, H. Investigation of the effects of polishing and etching on the quality of Cd_1-xZn_xTe using spatial mapping techniques / H. Yoon, J. M. Van Scyoc, R. B. James // Ibid. - 1997. - V. 26, N 6. - P. 529—533.
4. Tomashik, Z. F. Chemical-mechanical polishing of CdTe and Zn_xCd_1-xTe single crystals by H₂O₂(HNO₃)-HBr-organic solvent etchant compositions / Z. F. Tomashik, V. M. Tomashik, I. B. Stratiychuk, G. M. Okrepka, I. I. Hnativ, P. Moravec, P. Höschl, J. Bok // Ibid. - 2009. - V. 38, N 8. - P. 1637—1644.
5. Moravec, P. Chemical interaction of CdTe and CdZnTe with aqueous solutions of H₂O₂-HI-tartaric acid / P. Moravec, V. G. Ivanits’ka, J. Franc, Z. F. Tomashik, V. M. Tomashik, K. Mašek, P. I. Feychuk, L. P. Shcherbak, P. Höschl, R. Grill, J. Walter// Ibid. - 2009. - V. 38, N 8. - P. 1645—1651.
6. Ivanits’ka, V. G. Chemical etching of CdTe in Aqueous solutions of H₂O₂-HI-citric acid / V. G. Ivanits’ka, P. Moravec, J. Franc, Z. F. Tomashik, , V. M. Tomashik, P. I. Feychuk, L. P. Shcherbak, K. Mašek, P. Höschl// Ibid. - 2007. - V. 36, N 8. - P. 1021—1024.
7. Аверичкин, П. А. Кремнийорганические наносорбенты полиэдрической структуры / П. А. Аверичкин, Л. Н. Герчиков, Б. Н. Левонович, Ю. Н. Пархоменко, А. А. Шленский // Тез. докл. на 11 Междунар. семинаре-ярмарке «Российские технологии для индустрии». - Санкт-Петербург, 2007. - С. 46.
8. Артемов, А. С. Наноалмазы для полирования / А. С. Артемов // Физика твердого тела. - 2004. - Т. 46, вып. 4. - С. 670—678.
9. Артемов, А. С. Химико-механическое полирование - универсальная технология получения совершенной поверхности кристаллов / А. С. Артемов // Тез. докл. на XI Национальной конф. по росту кристаллов. - М. : ИК РАН, 2004. - С. 340.